3D晶體管技術革新現(xiàn)代電子產(chǎn)業(yè)
從前面關于3D Tri-Gate工藝的介紹來看,這一創(chuàng)新技術給桌面處理器帶來了無“限”可能,實際上,Tri-Gate工藝還將引發(fā)現(xiàn)代電子產(chǎn)業(yè)的革新。
Intel將在以上五家晶圓廠采用22nm Tri-Gate制造工藝
3D Tri-Gate工藝為移動設備帶來更廣闊發(fā)展空間
晶體管是現(xiàn)代電子的基石,3D Tri-Gate工藝一舉改變了沿用了50多年的晶體管設計,它不僅延續(xù)了摩爾定律,還將為移動處理器芯片掃清體積和功耗上的障礙,從而在為移動計算設備提供媲美桌面處理器性能的同時,進一步降低設備功耗,這在電池技術發(fā)展緩慢的當前具有非凡的意義。
晶體管制造工藝發(fā)展
Intel計劃推出14nm制程的Atom處理器
Intel目前正在進入移動處理芯片市場,借助3D Tri-Gate工藝,Intel可以推出更低功耗的Atom處理器(關于Atom處理器發(fā)展歷史可參考文章:終究能否逆天!Intel Atom全面回顧),從Intel Atom處理器路線圖上我們看到,Intel計劃于2014年推出14nm的Atom,3D Tri-Gate工藝則在2013年就登陸22nm的Atom了。在3D Tri-Gate新工藝幫助下,Intel將能推出性能更強、功耗更低的SoC芯片,一切順利的話,智能手機和平板機市場的格局將會全面改變。